磁控濺射鍍膜系統的操作規范：

1.正常工作的磁控濺射鍍膜系統在開動時，需要先將水管打開，在磁控濺射鍍膜系統運行之中要時刻注意水壓的狀態；

2.在離子轟擊和蒸發時，要特別注(zhu)意線路方面的情況，不得觸動(dong)高壓線頭，以防觸電(dian)；

3.在用磁控濺射鍍膜系統的電子槍的時候，要在鐘罩的外面圍上一定的防護措施，在觀察磁控濺射鍍膜系統內部工作狀態的時候，需要隔著一定的防護玻璃，觀察者建議戴上鉛玻璃的研究，以防X射線對人體造成危害；

4.在對多層介質膜進行(xing)鍍膜時，要記得安裝好通風(feng)吸塵(chen)裝置，及時對有害粉塵(chen)進行(xing)清除；

5.磁控濺射鍍膜系統的酸洗裝置需在通風(feng)裝置內進(jin)行操(cao)作(zuo)，且操(cao)作(zuo)時工作(zuo)人員應戴好橡膠手套；

6.真(zhen)空電鍍工作(zuo)完畢(bi)之后，應進行斷(duan)水和斷(duan)電的操作(zuo)，防止出(chu)現資源浪費和設備意外。

磁控濺射鍍膜系統是一種鍍膜設備，在大部分情況下是各種真空鍍膜設備的總稱。其特點是需要在較高的真空度下對產品進行鍍膜，且能源主要是為電能。這種較為精密設備從制造到使用再到保養都有著一系列非常高的要求。

在(zai)制造時候，由(you)于成品是需要在(zai)較高的真(zhen)空度(du)下進行(xing)鍍(du)膜的。所以制造時要嚴格保證真(zhen)空電鍍(du)機的密(mi)封性(xing)(xing)，密(mi)封性(xing)(xing)足夠才(cai)能(neng)形成真(zhen)空環境。

由于很多的(de)真空(kong)電(dian)鍍(du)機(ji)會采用濺射的(de)方式(shi)進行(xing)鍍(du)膜，所以在使用的(de)過程中帶有一定的(de)危險性，所以要求操(cao)作(zuo)人員必(bi)須擁有一定的(de)同類產(chan)品操(cao)作(zuo)經驗和嚴格的(de)安全防護措(cuo)施。