真空電鍍主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，離子束濺射系統，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。其中主要思路是分成蒸發和濺射兩種。在真空電鍍機中，需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材，基片與靶材同在真空腔中。蒸發鍍膜一般是指加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程形成薄膜。而對于濺射類鍍膜，我們可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經歷成膜過程，最終形成薄膜。

其(qi)中(zhong)在真空電鍍行(xing)業(ye)有一個專業(ye)名詞，那就是薄膜(mo)均(jun)勻(yun)性(xing)概(gai)念。其(qi)中(zhong)薄膜(mo)均(jun)勻(yun)性(xing)大(da)致(zhi)可以分(fen)為三種，

1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內；

2.化(hua)學組(zu)分上的(de)均勻性： 就(jiu)是說(shuo)在薄膜(mo)中，化(hua)合物(wu)的(de)原子組(zu)分會由于尺度過小而很容易的(de)產生(sheng)不(bu)均勻特性；

3.晶(jing)(jing)格有序(xu)度的(de)均勻性： 這決定了薄膜(mo)是單(dan)晶(jing)(jing)，多晶(jing)(jing)，非晶(jing)(jing)，是真(zhen)空鍍膜(mo)技術(shu)中的(de)熱點(dian)問題。