在鍍膜行業中，磁控濺射鍍膜儀是地位相當特殊的一種設備。其出現的時候大幅度晚于其他類型的鍍膜設備，諸如真空鍍膜機、離子鍍膜機的規劃出產時刻都早于磁控濺射鍍膜設備。

但在世紀的職業使用之中，磁控濺射鍍膜設備的使用規模卻并不小于上述兩者，甚至在某些特定設備的鍍膜需求中是超越這二者的。

例(li)如在手機外殼的鍍膜中，磁控濺射(she)鍍膜設備的受歡迎程度是(shi)遠大(da)于(yu)真空(kong)鍍膜的。    

原因在(zai)于(yu)(yu)磁控濺(jian)射鍍膜設備的鍍膜方法出產出來的手(shou)機殼往往在(zai)外觀上(shang)會比相同材(cai)料的真(zhen)空鍍膜更(geng)加亮(liang)，并且質(zhi)感也遠(yuan)優(you)于(yu)(yu)后者。

對于手機(ji)殼這種外表(biao)漂亮度需求較(jiao)高的(de)產品來說，更加漂亮也(ye)就意味著更好的(de)市場(chang)。

磁控濺射(she)是物理氣相沉積(ji)的(de)一(yi)種。一(yi)般的(de)濺射(she)法可被用于制備金屬(shu)、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡(jian)單、易于控制、鍍(du)膜(mo)面積(ji)大和附著力強等優點。

濺射(she)(she)過(guo)程中涉及到復雜的散射(she)(she)過(guo)程和多種傳遞(di)過(guo)程：入射(she)(she)粒子與靶材(cai)原子發生彈性碰撞，入射(she)(she)粒子的一部分動能(neng)會傳給靶材(cai)原子。

濺(jian)射鍍膜就是在真空(kong)中利用荷能粒子(zi)轟(hong)(hong)擊靶(ba)表面(mian)，使(shi)被轟(hong)(hong)擊出的(de)粒子(zi)沉積在基片(pian)上的(de)技術(shu)。利用低壓惰性氣體輝光放(fang)電來產生入射離子(zi)。

各種功能(neng)性薄(bo)膜：如具有吸(xi)收、透(tou)射、反射、折射、偏光等作用(yong)的薄(bo)膜。例如，低溫(wen)沉積氮化(hua)硅減反射膜，以提(ti)高太陽能(neng)電(dian)池的光電(dian)轉換(huan)效率。