磁控濺射系統設備在目前鍍膜行業中是一種不可缺少的鍍膜器材，目前大部分鍍膜企業都會有使用到。我們平日生產的時候都是由機器生產，那么大家知道目前的磁控濺射系統設備主要的濺射方式有哪幾種么？下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設備的濺射方式。

磁控濺射鍍膜設備原理解析

主要的磁控濺射鍍膜設備可以根據其特征分為以下四種：（1）直流濺射；（2）射頻濺射；（3）磁控濺射；（4）反應濺射.另外,利用各種離子束源也可以實現薄膜的濺射沉積.

現在的直流(liu)濺(jian)射(she)（也(ye)叫二級濺(jian)射(she)）較少(shao)用(yong)到(dao),原(yuan)因是濺(jian)射(she)氣壓較高,電(dian)壓較高,濺(jian)射(she)速(su)率小(xiao),膜層(ceng)不穩定等缺(que)點.

直(zhi)流濺(jian)射(she)發展后期(qi),人們在其(qi)表面加上一定磁場(chang)(chang),磁場(chang)(chang)束縛住自(zi)由(you)電子后,以上缺點(dian)均(jun)有所(suo)改善,也(ye)是現階(jie)段廣泛應用的一種(zhong)濺(jian)射(she)方法。

而(er)后又有中頻濺(jian)射,提高了陰極(ji)發電速率(lv),不易造(zao)成放電、靶材中毒等現象.

而射(she)(she)頻濺射(she)(she)是很高頻率下對(dui)靶材(cai)的濺射(she)(she),不易放電、靶材(cai)可任(ren)選金屬或(huo)者陶瓷(ci)等材(cai)料.沉積的膜層致密,附著力良(liang)好.

如果尋找(zhao)本質區別是(shi)：直流濺射(she)是(shi)氣(qi)體放電的(de)前期(qi),而射(she)頻是(shi)后期(qi),我們最常見(jian)的(de)射(she)頻是(shi)電焊機.濺射(she)過程(cheng)所用設備(bei)的(de)區別就是(shi)電源的(de)區別.

以上就是(shi)主要的磁控濺射鍍(du)膜設備(bei)的濺射方式，希(xi)望本文能(neng)夠讓(rang)用戶對設備(bei)更加(jia)了解(jie)。