磁控濺射技術是近年來新興的一種材料表面鍍膜技術，該技術實現了金屬、絕緣體等多種材料的表面鍍膜，具有高速、低溫、低損傷的特點。磁控濺射鍍膜儀廠家帶你了解更多！

真空鍍膜主要是為了減少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質量，在現代鏡頭制造工藝上都要對鏡頭進行真空鍍膜。鏡頭的真空鍍膜是根據光學的干涉原理，在鏡頭表面鍍上一層厚度為四分之一波長的物質(通常為氟化物)，使鏡頭對這一波長的色光的反射降至低。

磁(ci)控濺(jian)射(she)包括很(hen)多種類(lei)。各有不同工作原理(li)和應用(yong)(yong)對象。但有一(yi)共同點：利(li)用(yong)(yong)磁(ci)場(chang)與電(dian)場(chang)交互(hu)作用(yong)(yong)，使電(dian)子在靶表面(mian)附近成螺(luo)旋狀運(yun)行(xing)，從而增大電(dian)子撞擊氬氣產生離(li)(li)子的(de)概率。所產生的(de)離(li)(li)子在電(dian)場(chang)作用(yong)(yong)下(xia)撞向靶面(mian)從而濺(jian)射(she)出靶材。

用(yong)磁控靶源濺(jian)射金屬(shu)和合金很容易，點火和濺(jian)射很方(fang)便。這是因為靶（陰(yin)極(ji)），等離子體(ti)，和被濺(jian)零件/真空腔體(ti)可形成回(hui)路。但若濺(jian)射絕緣(yuan)體(ti)如陶瓷則回(hui)路斷了(le)。于是人們采用(yong)高頻電(dian)源，回(hui)路中加入很強的電(dian)容。這樣在絕緣(yuan)回(hui)路中靶材成了(le)一個(ge)電(dian)容。

靶源分平(ping)衡(heng)和非(fei)平(ping)衡(heng)式，平(ping)衡(heng)式靶源鍍膜均勻，非(fei)平(ping)衡(heng)式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平(ping)衡(heng)靶源多用于半(ban)導體光學(xue)膜，非(fei)平(ping)衡(heng)多用于磨損裝飾膜。