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濺射產額隨入射離子能量變化的簡單示意圖，簡稱濺射曲線。磁控濺射鍍膜儀廠家帶你了解更多！
顏色可以(yi)做到(dao)比較深(shen)，耐磨性能也很好，但其色調不夠純正，總是黑中略(lve)帶黃(huang)色。并且由于鈦的熔點相對較低(di)，在濺射時(shi)易出(chu)現大的顆(ke)粒，使其光(guang)令度(du)不易得到(dao)改善(shan)。
濺射鍍膜過程主要是將欲沉積成薄膜的材料制成靶材，固定在濺射沉積系統的陰極上，待沉積薄膜的基片放在正對靶面的陽極上。濺射系統抽至高真空后充入氬氣等，在陰極和陽極之間加載高壓，陰陽極之間會產生低壓輝光放電。
磁控濺射鍍膜技術主要用于塑料、陶瓷、玻璃、硅片等制品來沉積金屬或化合物薄膜從而獲得光亮、美觀、經濟的塑料、陶瓷表面金屬化制品。
磁(ci)控濺射不僅應用(yong)于(yu)科研及工業(ye)領域(yu)，已延伸到許多日常生活用(yong)品，主要應用(yong)在化學氣相沉(chen)積制膜困難(nan)的(de)薄膜制備。
磁控濺射(she)鍍膜技術由(you)于其顯著(zhu)的(de)優(you)點已經成為(wei)制(zhi)備薄膜的(de)主要技術之一。非(fei)平衡磁控濺射(she)改(gai)善了(le)等離子(zi)體區域的(de)分布(bu)，顯著(zhu)提高(gao)了(le)薄膜的(de)質量(liang)。
磁(ci)控(kong)濺射技術已經在我(wo)國(guo)的建材、裝飾、光學、防腐蝕、工磨具強化等領域比較廣(guang)泛的應用,利用磁(ci)控(kong)濺射技術進行光電、光熱(re)、磁(ci)學、超導、介質、催化等功能(neng)薄膜制備是當前研究的熱(re)點(dian)。
