磁控濺射鍍膜在高清PET基材上進行多層貴金屬磁控濺鍍，通過對濺射的金屬層數和種類的設計達到光譜選擇的目的，從而實現可見光高透過。磁控濺射鍍膜儀廠家帶你了解更多！

磁控濺射鍍膜是現代工業中不可缺少的技術之一，磁控濺射鍍膜技術正廣泛應用于透明導電膜、光學膜、超硬膜、抗腐蝕膜、磁性膜、增透膜、減反膜以及各種裝飾膜。

磁控濺射技(ji)術(shu)發(fa)展過程中各(ge)項技(ji)術(shu)的(de)突破一般集中在等(deng)(deng)離子(zi)體的(de)產生以及(ji)對(dui)等(deng)(deng)離子(zi)體進行(xing)的(de)控制(zhi)等(deng)(deng)方面。通過對(dui)電磁場、溫度場和(he)空(kong)間不同(tong)種類(lei)粒子(zi)分布參數(shu)的(de)控制(zhi)，使膜層質量(liang)和(he)屬(shu)性滿(man)足各(ge)行(xing)業的(de)要求。

相對準確的電(dian)磁場(chang)(chang)設計是(shi)對濺射(she)過程中的電(dian)磁場(chang)(chang)進行模擬(ni)，而(er)不(bu)是(shi)只對未工作時的磁控濺射(she)設備進行電(dian)磁場(chang)(chang)模擬(ni)。

陽極(ji)設(she)計要考(kao)慮空間的位置，電(dian)位關系，尺寸和面積以及陽極(ji)的材(cai)料性(xing)能，保(bao)證濺射(she)過程穩(wen)定(ding)進(jin)行。屏蔽的設(she)計，首先要考(kao)慮電(dian)場的設(she)計和電(dian)位關系，防(fang)止(zhi)非靶材(cai)材(cai)料被濺射(she)，污(wu)染薄膜。

濺射碰撞(zhuang)一般是研究(jiu)帶(dai)電荷能離子與靶(ba)材表(biao)層粒(li)子相互(hu)作用，并伴(ban)隨靶(ba)材原子及(ji)原子團(tuan)簇(cu)的產生的過程(cheng)。