磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。磁控濺射鍍膜儀廠家帶你了解更多！

用磁控(kong)靶源濺射(she)(she)金(jin)屬和(he)(he)(he)合金(jin)很(hen)(hen)容易，點火(huo)和(he)(he)(he)濺射(she)(she)很(hen)(hen)方便。這是因為靶（陰極(ji)），等離子體，和(he)(he)(he)被濺零件(jian)/真空(kong)腔(qiang)體可形成回路(lu)。但(dan)若(ruo)濺射(she)(she)絕緣(yuan)體如陶瓷則回路(lu)斷了。

磁控濺射(she)電源(yuan)昂貴，濺射(she)速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規模(mo)采用。

磁控反應濺射絕緣體(ti)看(kan)似容(rong)易，而實際操(cao)作困難。主要問(wen)題是反應不光發(fa)生(sheng)在零件表面，也發(fa)生(sheng)在陽(yang)極，真(zhen)空腔體(ti)表面，以及靶源(yuan)表面。從(cong)而引起滅(mie)火(huo)，靶源(yuan)和(he)工件表面起弧等。

磁控濺射鍍膜是現代工業中不可缺少的技術之一，磁控濺射鍍膜技術正廣泛應用于透明導電膜、光學膜、超硬膜、抗腐蝕膜、磁性膜、增透膜、減反膜以及各種裝飾膜。

磁(ci)控(kong)濺(jian)射技術發展過程(cheng)中(zhong)各項技術的(de)突破一般(ban)集中(zhong)在(zai)等離(li)子體的(de)產生以及對等離(li)子體進(jin)行的(de)控(kong)制(zhi)等方面。

濺射鍍(du)(du)(du)膜(mo)(mo)膜(mo)(mo)厚均(jun)(jun)勻(yun)性(xing)是間(jian)接衡量(liang)鍍(du)(du)(du)膜(mo)(mo)工藝的標(biao)準之一，它涉及(ji)鍍(du)(du)(du)膜(mo)(mo)過程的各(ge)個(ge)方面。因此(ci)，制備(bei)膜(mo)(mo)厚均(jun)(jun)勻(yun)性(xing)好的薄膜(mo)(mo)需要建立一個(ge)濺射鍍(du)(du)(du)膜(mo)(mo)膜(mo)(mo)厚均(jun)(jun)勻(yun)性(xing)綜合(he)設計系統，對濺射鍍(du)(du)(du)膜(mo)(mo)的各(ge)個(ge)方面進行(xing)分類、歸納和總結，找出其內在聯系。

設計需要定量的(de)(de)(de)計算真(zhen)(zhen)空(kong)室內(nei)的(de)(de)(de)工(gong)藝氣體(ti)密度分布。不(bu)同種類的(de)(de)(de)氣體(ti)和(he)不(bu)同的(de)(de)(de)真(zhen)(zhen)空(kong)室清潔程度的(de)(de)(de)要求需要選(xuan)用不(bu)同的(de)(de)(de)真(zhen)(zhen)空(kong)泵和(he)真(zhen)(zhen)空(kong)計。