磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。磁控濺射鍍膜儀廠家帶你了解更多！

用磁(ci)控(kong)靶源(yuan)濺射(she)金屬(shu)和(he)(he)合金很(hen)(hen)容易，點火和(he)(he)濺射(she)很(hen)(hen)方便。這是(shi)因(yin)為靶（陰極），等(deng)離(li)子體，和(he)(he)被濺零件/真(zhen)空(kong)腔體可形成回路(lu)。但若濺射(she)絕緣(yuan)體如陶瓷則回路(lu)斷(duan)了。于是(shi)人(ren)們采(cai)用高(gao)頻電源(yuan)，回路(lu)中加入很(hen)(hen)強的電容。這樣(yang)在絕緣(yuan)回路(lu)中靶材(cai)成了一個電容。

真空鍍膜機是目前制作真空條件應用廣泛的真空設備，一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成。

磁控濺射鍍膜技術正廣泛應用于透明導電膜、光學膜、超硬膜、抗腐蝕膜、磁性膜、增透膜、減反膜以及各種裝飾膜，在國防和國民經濟生產中的作用和地位日益強大。鍍膜工藝中的薄膜厚度均勻性，沉積速率，靶材利用率等方面的問題是實際生產中十分關注的。

磁(ci)控濺射技術發展(zhan)過(guo)程中各項(xiang)技術的(de)突破(po)一般集中在等(deng)(deng)離子(zi)體的(de)產生以及對等(deng)(deng)離子(zi)體進行的(de)控制(zhi)等(deng)(deng)方面。通過(guo)對電磁(ci)場(chang)、溫度場(chang)和(he)空間不同(tong)種類粒子(zi)分(fen)布(bu)參數的(de)控制(zhi)，使膜層(ceng)質量(liang)和(he)屬性滿足(zu)各行業(ye)的(de)要求(qiu)。