真空離子束濺射系統是真空鍍膜設備的一種，它指的是一類需要在一定真空環境下進行的鍍膜。離子鍍膜機的原理和真空鍍膜機的類似，這里就不多加贅述了。今天，給大家簡單介紹下離子束濺射系統較常使用的離子鍍的類型及特點。

1、電阻加(jia)熱或(huo)電子束加(jia)熱蒸(zheng)發源

①直流放電二極(ji)型

特點：繞射性好(hao)，附著(zhu)性好(hao)，基板溫度易上升(sheng)，膜結構及形貌差，若(ruo)用(yong)電子束加熱(re)必(bi)須(xu)用(yong)差壓板。

②多(duo)陰極型

特點：采用低能電(dian)子(zi)離化效率高，膜層質(zhi)量可(ke)控制。

③射頻放電(dian)離子鍍

特點(dian)：不(bu)純氣(qi)體少，成膜(mo)好，化(hua)合物成膜(mo)更好。匹配較困難。

2、電子束加熱(re)蒸發源

①活性反應蒸(zheng)鍍

特點(dian)：蒸鍍效率(lv)高，能(neng)獲得三氧化二(er)鋁(lv)、TiN等薄(bo)膜(mo)。

②增強的ARE型

特點：易(yi)離化，基板所需功率和放電功率能獨立調(diao)節，膜層質量、厚度都容易(yi)控制。

③低壓等離子鍍

特點(dian)：結構簡單能獲得TiC、TiN等化合物鍍層。

④電(dian)場蒸(zheng)發

特點：帶電場的真空蒸鍍(du)，鍍(du)層質量好。

3、等離子(zi)電子(zi)束

空心陰極放電(dian)離子鍍

特(te)點：離(li)比效率高，電(dian)子(zi)束斑較大，金屬膜(mo)、介質膜(mo)、化合(he)物(wu)膜(mo)都能鍍。