磁控濺射技術是常用的一種物理氣相沉積技術。磁控濺射鍍膜機可用于制備金屬、半導體、絕緣體等多種薄膜材料，具有設備成熟、易于控制、鍍膜面積大、附著力強等優點，因此被廣泛使用。磁控濺射鍍膜儀廠家帶你了解更多！

可見(jian)光波(bo)段：陰(yin)極發(fa)射(she)的電子(zi)電離介質氣體分子(zi)，分子(zi)/原子(zi)光譜。這(zhe)些光密度不(bu)大(da)，不(bu)至于刺傷鈦合金狗眼. 屬于無(wu)害(hai)輻射(she)。

不可見(jian)光波段(duan)：陰極(ji)發射的電子(zi)電離介(jie)質氣體分(fen)子(zi)，紅外/紫外，分(fen)子(zi)/原子(zi)光譜。

小型磁控濺射鍍膜系統適合于快速濺射鍍膜科研、教學與小批量打樣，可快速、低成本的制備多種微納米厚度的膜層。 

磁控濺射鍍膜(mo)是指(zhi)將(jiang)涂層(ceng)材料做為靶(ba)(ba)陰極(ji)，利(li)用氬離子轟擊靶(ba)(ba)材，產生陰極(ji)濺射，把靶(ba)(ba)材原子濺射到工件上形成沉積層(ceng)的一種鍍膜(mo)技術(shu)。

是將涂層材(cai)料做為靶陰(yin)極，利用氬離子轟擊靶材(cai)，產生陰(yin)極濺射，把靶材(cai)原子濺射到(dao)工件上形成(cheng)(cheng)沉積(ji)層的(de)一(yi)種鍍膜技術(shu)，涂層材(cai)料一(yi)直保(bao)持固態，不形成(cheng)(cheng)熔池。

由于磁控濺射鐵磁性靶(ba)材(cai)的(de)(de)難點是靶(ba)材(cai)表面(mian)的(de)(de)磁場達(da)(da)不(bu)到正常磁控濺射時要求(qiu)的(de)(de)磁場強度，因此解決的(de)(de)思路是增加(jia)鐵磁性靶(ba)材(cai)表面(mian)剩(sheng)磁的(de)(de)強度，以(yi)達(da)(da)到正常濺射工(gong)作對靶(ba)材(cai)表面(mian)磁場大小的(de)(de)要求(qiu)。

將鐵磁(ci)性靶材(cai)的厚度減(jian)薄是解(jie)決磁(ci)控濺射鐵磁(ci)材(cai)料靶材(cai)的常見方法(fa)。如果鐵磁(ci)性靶材(cai)足夠(gou)薄，則其(qi)不能完全屏蔽磁(ci)場，一部分(fen)磁(ci)通將靶材(cai)飽和，其(qi)余的磁(ci)通將從靶材(cai)表面通過，達到磁(ci)控濺射的要求。