磁控濺射鍍膜技術發展趨勢

等離子體濺射的基本過程是負極的靶材在位于其上的等離子體中的載能離子作用下，靶材原子從靶材濺射出來，然后在襯底上凝聚形成薄膜；在此過程中靶材表面同時發射二次電子，這些電子在保持等離子體穩定存在方面具有關鍵作用。濺射技術的出現和應用已經經歷了許多階段，起初，只是簡單的二極、三極放電濺射沉積;經過30多年的發展，磁控濺射技術已經發展成為制備超硬、耐磨、低摩擦系數、耐蝕、裝飾以及光學、電學等功能性薄膜的一種不可替代的方法。脈沖磁控濺射技術是該領域的另一項重大進展。

磁(ci)(ci)控(kong)(kong)(kong)濺(jian)(jian)射技(ji)術(shu)已經在我(wo)國的(de)建材、裝飾、光學(xue)(xue)(xue)、防腐(fu)蝕、工(gong)(gong)(gong)(gong)磨具(ju)強化等(deng)領(ling)域(yu)得到(dao)比(bi)較廣泛的(de)應用(yong)(yong)，利用(yong)(yong)磁(ci)(ci)控(kong)(kong)(kong)濺(jian)(jian)射技(ji)術(shu)進(jin)行光電、光熱(re)、磁(ci)(ci)學(xue)(xue)(xue)、超導、介(jie)質、催(cui)化等(deng)功能薄(bo)膜制(zhi)備是(shi)當(dang)前研究的(de)熱(re)點。但是(shi)，關于非平(ping)衡(heng)磁(ci)(ci)控(kong)(kong)(kong)濺(jian)(jian)射技(ji)術(shu)尤其是(shi)新型沉積工(gong)(gong)(gong)(gong)藝(yi)，國內(nei)了(le)解(jie)(jie)、研究的(de)單(dan)位(wei)還(huan)很少。防腐(fu)蝕、高(gao)(gao)硬度(du)薄(bo)膜在提高(gao)(gao)石(shi)油(you)機械的(de)性能、壽命等(deng)方面能夠發(fa)揮重(zhong)要作(zuo)用(yong)(yong)，低摩擦系數、潤滑(hua)、防泥包、催(cui)化、光學(xue)(xue)(xue)等(deng)功能薄(bo)膜應用(yong)(yong)于石(shi)化行業時(shi)有(you)望大幅度(du)提高(gao)(gao)工(gong)(gong)(gong)(gong)作(zuo)效(xiao)率、產品(pin)品(pin)質以及環保、安全性等(deng)。伴隨新型磁(ci)(ci)控(kong)(kong)(kong)濺(jian)(jian)射技(ji)術(shu)及工(gong)(gong)(gong)(gong)藝(yi)的(de)發(fa)展、應用(yong)(yong)，石(shi)油(you)、化工(gong)(gong)(gong)(gong)行業對提高(gao)(gao)生產效(xiao)率、環保、安全性等(deng)需求的(de)增(zeng)加(jia)，磁(ci)(ci)控(kong)(kong)(kong)濺(jian)(jian)射技(ji)術(shu)對石(shi)油(you)、化工(gong)(gong)(gong)(gong)領(ling)域(yu)的(de)重(zhong)要性將不斷加(jia)大。但是(shi)，目前我(wo)國石(shi)化行業對磁(ci)(ci)控(kong)(kong)(kong)濺(jian)(jian)射技(ji)術(shu)尚(shang)缺(que)乏足夠的(de)了(le)解(jie)(jie)、應用(yong)(yong)，也沒有(you)從事該(gai)方面工(gong)(gong)(gong)(gong)作(zuo)的(de)專門機構(gou)。為此，呼吁相關方面應加(jia)強對磁(ci)(ci)控(kong)(kong)(kong)濺(jian)(jian)射技(ji)術(shu)的(de)支持(chi)。 

文(wen)章內容來(lai)源于(yu)網絡，如有問(wen)題(ti)請和(he)我(wo)聯系刪除！