磁控濺射鍍膜技術的發展及應用

濺射鍍膜是指在真空室中，利用荷能粒子轟擊靶材表面，通過粒子動量傳遞打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基體上形成薄膜的技術。濺射鍍膜技術具有可實現大面積快速沉積，薄膜與基體結合力好，濺射密度高、針孔少，膜層可控性和重復性好等優點，而且任何物質都可以進行濺射，因而近年來發展迅速，應用廣泛。

濺射(she)方法

濺射技術的成膜方法較多，典型方法有直流二極濺射、三極濺射與磁控濺射等。

濺射鍍膜技術的應(ying)用

1. 制備薄膜磁頭的耐(nai)磨損氧(yang)化(hua)膜

硬盤(pan)磁頭(tou)進行讀寫操作時與硬盤(pan)表面產(chan)生(sheng)滑動摩(mo)擦，為了(le)減小摩(mo)擦力及提高磁頭(tou)壽命，目前磁頭(tou)正向薄膜化方向發(fa)展(zhan)。

2. 制備(bei)硬質薄(bo)膜

目前廣泛使(shi)用的硬化膜是水溶液電(dian)鍍鉻。電(dian)鍍會使(shi)鋼發生氫脆(cui)，而(er)且電(dian)鍍速度慢(man)，造成環(huan)境污(wu)染。

3. 制備(bei)切削刀具和模(mo)具的超硬膜(mo)

采用(yong)普通化學氣相沉(chen)積技術制備等超硬(ying)鍍(du)層，溫(wen)度要在1000 ℃ 左右，這已經超過了(le)高(gao)速鋼(gang)的回(hui)火溫(wen)度，對于硬(ying)質合金來說還可能使鍍(du)層晶(jing)粒長(chang)大。

4. 制備固體潤滑膜

固(gu)體潤滑膜薄(bo)膜已成功應用于真空工業(ye)設(she)備、原子能設(she)備以及航空航天領(ling)域，對于工作在高溫環境(jing)的(de)機(ji)械設(she)備也是畢不可少的(de)。

5. 制備光學薄膜(mo)

濺射(she)法(fa)是目前工(gong)業生成中制備光學(xue)薄(bo)膜的一種主要的工(gong)藝 。近(jin)年來，光通信(xin)，顯示技(ji)術等方面對光學(xue)薄(bo)膜的巨大需求，刺激(ji)了將該技(ji)術用于光學(xue)薄(bo)膜工(gong)業化生產的研究。 

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