磁控濺射鍍膜技術主要用于塑料、陶瓷、玻璃、硅片等制品來沉積金屬或化合物薄膜從而獲得光亮、美觀、經濟的塑料、陶瓷表面金屬化制品。裝飾、燈具、家具、玩具、工藝美術、裝璜等生活領域的制膜技術通常用磁控濺射方法，該方法還應用于軍事保護膜、光學產品、磁記錄介質、電路印制板、防潮增透膜、耐磨膜、防銹抗蝕等工業領域。

磁控濺射不僅應用于科研及工業領域，已延伸到許多日常生活用品，主要應用在化學氣相沉積制膜困難的薄膜制備。磁控濺射技術在制備電子封裝及光學薄膜方面已有多年，特別是先進的中頻非平衡磁控濺射技術也已在光學薄膜、透明導電玻璃等方面得到應用。透明導電玻璃目前應用廣泛，如電視電腦平板顯示器件、電磁微波與射頻屏蔽裝置及器件、太陽能電池等。另外，在光學存儲領域中磁控濺射鍍膜技術也發揮著很大的作用。再者，該制膜技術在表面功能薄膜、自潤滑薄膜、超硬薄膜等方面的應用也很廣泛。

除上述已(yi)被大量(liang)應用的領域外，磁控濺射鍍膜(mo)技術還在高溫、超導薄膜(mo)、巨磁阻薄膜(mo)、鐵電(dian)體薄膜(mo)、發光薄膜(mo)、形狀記憶合金薄膜(mo)、太陽能電(dian)池(chi)等研究方面發揮(hui)著重要作(zuo)用。

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