由于磁控濺射鍍膜系統的難點是靶材表面的磁場達不到正常磁控濺射時要求的磁場強度，因此解決的思路是增加鐵磁性靶材表面剩磁的強度，以達到正常濺射工作對靶材表面磁場大小的要求。實現的途徑主要有以下幾種：

a、靶(ba)材設計(ji)與改進

b、增(zeng)強磁(ci)控濺射陰極的磁(ci)場

c、降低靶材的導磁率

d、設計新的磁控濺射系統

e、設(she)計新(xin)的(de)濺射陰極裝置(zhi)

f、靶材與濺(jian)射陰極裝置的綜合設計

靶材的設計改進

將(jiang)(jiang)鐵磁(ci)(ci)(ci)性靶(ba)(ba)材(cai)的(de)厚度減薄是解決磁(ci)(ci)(ci)控濺射鐵磁(ci)(ci)(ci)材(cai)料靶(ba)(ba)材(cai)的(de)常見(jian)方法。如果鐵磁(ci)(ci)(ci)性靶(ba)(ba)材(cai)足夠(gou)薄，則其不(bu)能(neng)完(wan)全屏蔽磁(ci)(ci)(ci)場，一(yi)部分(fen)磁(ci)(ci)(ci)通(tong)將(jiang)(jiang)靶(ba)(ba)材(cai)飽和，其余的(de)磁(ci)(ci)(ci)通(tong)將(jiang)(jiang)從靶(ba)(ba)材(cai)表面通(tong)過，達到(dao)磁(ci)(ci)(ci)控濺射的(de)要求(qiu)。這種方法的(de)缺(que)點是靶(ba)(ba)材(cai)的(de)使(shi)用壽(shou)命過短，同時靶(ba)(ba)材(cai)的(de)利用率很低。而且薄片靶(ba)(ba)材(cai)的(de)另一(yi)個缺(que)點是濺射工(gong)作時，靶(ba)(ba)材(cai)的(de)熱變形(xing)嚴重(zhong)，往往造成濺射很不(bu)均勻。

一(yi)(yi)種(zhong)對(dui)(dui)鐵磁(ci)性靶(ba)(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)進(jin)行的改(gai)(gai)進(jin)設(she)計是在靶(ba)(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)表面(mian)刻槽(cao)，槽(cao)的位置在濺射環(huan)兩側。這種(zhong)設(she)計的靶(ba)(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)適用于具(ju)有(you)一(yi)(yi)般導磁(ci)率(lv)(lv)的鐵磁(ci)性靶(ba)(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)，例如鎳(nie)。但對(dui)(dui)具(ju)有(you)高導磁(ci)率(lv)(lv)的靶(ba)(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)料效果(guo)較差。雖然(ran)靶(ba)(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)的這種(zhong)改(gai)(gai)進(jin)增加了靶(ba)(ba)(ba)(ba)材(cai)(cai)的成本，但這種(zhong)措(cuo)施無需對(dui)(dui)濺射陰極進(jin)行改(gai)(gai)動，能在一(yi)(yi)定程度上滿足濺射鐵磁(ci)性材(cai)(cai)料的需求。