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隨著科技的發展，使用磁控濺射鍍膜系統對顆粒狀物體鍍膜已經不再是一件難事。特別是在顆粒狀金屬物體表面使用鍍膜技術已經相當成熟。這是應為顆粒物體表面積能都比較大，其之間能夠容易進行團聚，曲率半徑卻是小的，因此在顆粒狀物體表面上使用磁控雖然可行，但是其難度系數也是非常大的。
國(guo)外在顆(ke)粒表面使用(yong)鍍膜(mo)技術基本(ben)上是采(cai)用(yong)無極化學鍍，這(zhe)種技術相對來講是比較成熟的，但是所鍍出來的膜(mo)質量較差(cha)，差(cha)在哪(na)里呢？其薄膜(mo)福海(hai)均勻(yun)性達不(bu)到要(yao)求，且(qie)表面居(ju)多裂痕，附著力比較差(cha)，且(qie)鍍液對環境造成的影響是非常的大的。
而我國采用的微顆粒磁控濺射鍍膜設備。主要由真空室、陰極靶、樣品架、樣品皿、加熱器、真空抽氣裝置、氬氣通氣口、放氣閥、密封圈、振動發生器等組成. 本設備是在普通直流磁控濺射鍍膜設備的基礎上，增加了一個超聲波振動發生器，濺射鍍膜時，通過調節樣品架的擺動頻率和超聲波的振動功率，使每個微顆粒都能維持一個良好的分散狀態和較好的流動性，使每個微顆粒都有機會充分地暴露其表面，并通過調節真空室內的工作氣壓、濺射功率、溫度和濺射時間等工藝條件，就可以在微顆粒表面沉積上金屬薄膜。
使用這種設備對微(wei)(wei)顆粒(li)進(jin)行磁控濺射鍍膜的(de)好處就(jiu)是能夠(gou)使得(de)每個微(wei)(wei)顆粒(li)的(de)表(biao)面(mian)都(dou)能夠(gou)等(deng)概率的(de)暴露(lu)。從而使得(de)每個表(biao)面(mian)都(dou)能夠(gou)堵(du)上均勻，致密，附(fu)著力好，無裂痕的(de)薄膜。
