真空鍍膜主要是為了減少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質量，在現代鏡頭制造工藝上都要對鏡頭進行真空鍍膜。磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。磁控濺射鍍膜儀廠家帶你了解更多！

用磁控靶源濺射金(jin)屬(shu)和(he)合金(jin)很(hen)容易，點火和(he)濺射很(hen)方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和(he)被濺零件/真空(kong)腔(qiang)體可形成(cheng)回路。

真(zhen)空(kong)(kong)鍍膜機是(shi)目前制作真(zhen)空(kong)(kong)條件應用廣泛的真(zhen)空(kong)(kong)設備，一般用真(zhen)空(kong)(kong)室、真(zhen)空(kong)(kong)機組(zu)、電氣控制柜三大部分組(zu)成(cheng)。

用磁控(kong)靶源濺(jian)射(she)金屬和合金很(hen)容(rong)易(yi)，點火(huo)和濺(jian)射(she)很(hen)方便。這是(shi)因為靶（陰(yin)極），等離(li)子體(ti)，和被濺(jian)零(ling)件(jian)/真(zhen)空腔體(ti)可形成(cheng)回(hui)路(lu)。但若濺(jian)射(she)絕緣體(ti)如(ru)陶瓷(ci)則(ze)回(hui)路(lu)斷(duan)了。于是(shi)人(ren)們采(cai)用高頻(pin)電源，回(hui)路(lu)中(zhong)加入很(hen)強的(de)電容(rong)。這樣在絕緣回(hui)路(lu)中(zhong)靶材成(cheng)了一個電容(rong)。

鍍前預處理的(de)目的(de)是為了(le)得到干凈新鮮的(de)金屬表面，為最后獲得高質量鍍層(ceng)作(zuo)準備，要(yao)進(jin)行脫脂、去(qu)銹蝕、去(qu)灰塵等工(gong)作(zuo)。