磁控濺射鍍膜儀技術的發展及應用

濺射鍍膜是指在真空室中，利用荷能粒子轟擊靶材表面，通過粒子動量傳遞打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基體上形成薄膜的技術。濺射鍍膜技術具有可實現大面積快速沉積，薄膜與基體結合力好，濺射密度高、針孔少，膜層可控性和重復性好等優點，而且任何物質都可以進行濺射，因而近年來發展迅速，應用廣泛。

濺射方法

濺射技術的成膜方法較多，典型方法有直流二極濺射、三極濺射與磁控濺射等。

濺(jian)射(she)鍍膜技術(shu)的應用(yong)

1. 制備薄膜(mo)磁頭的耐磨(mo)損氧化膜(mo)

硬盤磁(ci)(ci)頭進行讀(du)寫操作時與(yu)硬盤表(biao)面產生滑動摩擦，為了(le)減小摩擦力及(ji)提高磁(ci)(ci)頭壽(shou)命，目前磁(ci)(ci)頭正向薄膜化方(fang)向發展。

2. 制備硬質薄膜

目前廣泛(fan)使用(yong)的硬化(hua)膜是水(shui)溶液電(dian)(dian)鍍(du)鉻。電(dian)(dian)鍍(du)會使鋼發生氫脆，而且(qie)電(dian)(dian)鍍(du)速度慢，造成環境污染。

3. 制備(bei)切削刀具(ju)和模具(ju)的超(chao)硬膜

采用(yong)普通化學氣相沉積技術制備(bei)等超硬鍍(du)(du)層(ceng)，溫度(du)要在1000 ℃ 左(zuo)右(you)，這已經超過了高(gao)速(su)鋼的回火溫度(du)，對于(yu)硬質合金來說(shuo)還可(ke)能使鍍(du)(du)層(ceng)晶粒(li)長大。

7靶磁控濺射系統

4. 制備固體潤滑膜

固體(ti)潤滑(hua)膜(mo)薄膜(mo)已成功(gong)應用于真空工業設備(bei)、原子能設備(bei)以(yi)及航空航天領域(yu)，對于工作在高溫(wen)環境的機械設備(bei)也是畢不可少的。

5. 制(zhi)備光(guang)學薄膜(mo)

濺射法是(shi)目前工業生(sheng)成中制(zhi)備光(guang)學(xue)薄(bo)膜的(de)一(yi)種主要的(de)工藝 。近年來(lai)，光(guang)通信，顯示技術等(deng)方(fang)面對光(guang)學(xue)薄(bo)膜的(de)巨大需(xu)求，刺激了將該技術用于光(guang)學(xue)薄(bo)膜工業化生(sheng)產的(de)研(yan)究。 

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