磁控濺射技術應用中存在哪些問題？

隨著科(ke)技和(he)經濟社會的(de)發展，人們(men)對磁(ci)控濺射技術提出了(le)更高(gao)的(de)要求，其存在的(de)不(bu)足也日益(yi)顯現(xian)。人們(men)也正不(bu)斷深入(ru)研究、改進完善這項技術。

一(yi)個重要問(wen)題是靶(ba)(ba)材(cai)(cai)的(de)利(li)用率較(jiao)低(di)，這對工業生產的(de)成本(ben)控(kong)制(zhi)是不利(li)的(de)。靶(ba)(ba)材(cai)(cai)是磁(ci)控(kong)濺(jian)(jian)(jian)射(she)中基本(ben)的(de)耗材(cai)(cai)，靶(ba)(ba)材(cai)(cai)不僅消(xiao)耗量大，而且靶(ba)(ba)材(cai)(cai)的(de)利(li)用率高低(di)對整(zheng)個工藝(yi)過程、效(xiao)果以(yi)(yi)及工藝(yi)周期都有相當大的(de)影響(xiang)。然(ran)而，由于目(mu)前對于大多數(shu)磁(ci)控(kong)濺(jian)(jian)(jian)射(she)設(she)備，濺(jian)(jian)(jian)射(she)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)在濺(jian)(jian)(jian)射(she)過程中總會產生不均勻(yun)沖蝕的(de)現象。一(yi)旦靶(ba)(ba)材(cai)(cai)被擊穿(chuan)，就會報(bao)廢。由此造成的(de)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)利(li)用率一(yi)直(zhi)較(jiao)低(di)，一(yi)般在30%以(yi)(yi)下(xia)。雖然(ran)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)能夠回(hui)收再利(li)用，但其(qi)仍然(ran)對企業成本(ben)控(kong)制(zhi)以(yi)(yi)及產品競爭力(li)有很大的(de)影響(xiang)。

為了(le)提(ti)高靶(ba)(ba)材(cai)利用率，目前國內磁(ci)控鍍膜研究的(de)主要方(fang)向還(huan)是集中(zhong)在(zai)磁(ci)場的(de)優化設(she)計(ji)(ji)上，針對別的(de)領域例如(ru)靶(ba)(ba)材(cai)冷卻(que)系統(tong)的(de)設(she)計(ji)(ji)仍較少(shao)。目前常用的(de)方(fang)法是采用旋轉磁(ci)場增加濺(jian)射(she)面(mian)積等通過(guo)改變(bian)平面(mian)靶(ba)(ba)結構來提(ti)高靶(ba)(ba)材(cai)的(de)利用率，取得了(le)較好成效。

另一個主(zhu)要(yao)的問題是(shi)鍍(du)(du)(du)(du)(du)膜(mo)機(ji)(ji)的均(jun)(jun)勻(yun)(yun)性(xing)(xing)較(jiao)低。鍍(du)(du)(du)(du)(du)膜(mo)機(ji)(ji)均(jun)(jun)勻(yun)(yun)性(xing)(xing)的好壞直接影響到了(le)光學薄(bo)膜(mo)的品質高(gao)低，均(jun)(jun)勻(yun)(yun)性(xing)(xing)能(neng)夠提(ti)高(gao)鍍(du)(du)(du)(du)(du)膜(mo)良(liang)性(xing)(xing)，目(mu)前對鍍(du)(du)(du)(du)(du)膜(mo)機(ji)(ji)均(jun)(jun)勻(yun)(yun)性(xing)(xing)的精(jing)度要(yao)求需要(yao)0.1%甚至更(geng)高(gao)。但目(mu)前市場上主(zhu)流的鍍(du)(du)(du)(du)(du)膜(mo)機(ji)(ji)的均(jun)(jun)勻(yun)(yun)性(xing)(xing)只能(neng)達到1%。國內有研究團隊研究出一種(zhong)對鍍(du)(du)(du)(du)(du)膜(mo)機(ji)(ji)夾具(ju)的改進來進行均(jun)(jun)勻(yun)(yun)性(xing)(xing)改善的方案，為鍍(du)(du)(du)(du)(du)制高(gao)性(xing)(xing)能(neng)薄(bo)膜(mo)以(yi)及提(ti)高(gao)鍍(du)(du)(du)(du)(du)膜(mo)良(liang)性(xing)(xing)提(ti)供了(le)一種(zhong)新的方法。

文章(zhang)內容來源于網絡(luo)，如有問題請和我聯系刪(shan)除！