為了解決陰極濺射的缺陷，人們在20世紀70年代開發出了磁控濺射鍍膜儀，它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的弱點，由于被濺射原子是與具有數十電子伏特能量的正離子交換動能后飛濺出來的，因而濺射出來的原子能量高，有利于提高沉積時原子的擴散能力，提高沉積組織的致密程度，使制出的薄膜與基片具有強的附著力，因而獲得了迅速發展和廣泛應用。磁控濺射鍍膜儀已被應用大量的領域，還在高溫超導薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜研究方面發揮重要作用。

（1）各種功能性薄(bo)膜：如具有吸收、透射(she)(she)、反(fan)射(she)(she)、折射(she)(she)、偏光(guang)等(deng)作用的(de)薄(bo)膜。例(li)如，低溫沉(chen)積氮化(hua)硅減反(fan)射(she)(she)膜，以提高太(tai)陽能電(dian)(dian)池(chi)的(de)光(guang)電(dian)(dian)轉換效率。

（2）裝飾領域的(de)應(ying)用，如(ru)各(ge)種(zhong)全反射膜(mo)及(ji)半透(tou)明膜(mo)等，如(ru)手機外殼，鼠標等。

（3）在(zai)(zai)微(wei)電子領域作(zuo)為(wei)一種非熱式(shi)鍍膜技術，主要應用在(zai)(zai)化學氣相(xiang)沉積（CVD）或(huo)金(jin)屬有機。

（4）化(hua)學氣相沉積(ji)（CVD）生長困難及不(bu)適用(yong)的材料(liao)薄膜沉積(ji)，而且可以獲得大面積(ji)非常均勻的薄膜。

（5）在光學領域：中頻閉合場非平(ping)衡磁(ci)控(kong)濺射(she)(she)技術也已在光學薄(bo)膜（如(ru)增透(tou)膜）、低輻(fu)射(she)(she)玻璃(li)和透(tou)明導電(dian)(dian)(dian)玻璃(li)等方面得到應用。特別(bie)是透(tou)明導電(dian)(dian)(dian)玻璃(li)目前廣泛(fan)應用于(yu)平(ping)板(ban)顯示器(qi)(qi)件(jian)、太陽能電(dian)(dian)(dian)池、微(wei)波與(yu)射(she)(she)頻屏蔽(bi)裝置(zhi)與(yu)器(qi)(qi)件(jian)、傳感器(qi)(qi)等。

（6）在機(ji)械加工行業中，表面(mian)功能(neng)膜、超硬膜，自(zi)潤滑薄膜的(de)(de)表面(mian)沉積技術自(zi)問世以來得到(dao)長足發(fa)展，能(neng)有效(xiao)的(de)(de)提高(gao)表面(mian)硬度(du)、復合(he)韌性、耐磨損性和(he)抗高(gao)溫化學(xue)穩(wen)定性能(neng)，從而大幅度(du)地提高(gao)涂(tu)層產品的(de)(de)使用壽命。