磁控濺射是物理氣相堆積的一種,磁控濺射通過在靶陰極外表引入磁場，使用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。磁控濺射工藝在日常操作過程中有哪些常見的毛病呢？

磁(ci)控濺(jian)射常見毛病及解決辦法

1.無法起輝(hui)

（1）直(zhi)流(liu)電源毛病，查看直(zhi)流(liu)電源；

（2）氬氣進氣量(liang)小，查看氬氣流量(liang)計或加大氬氣進氣量(liang)；

（3）真(zhen)空室清(qing)潔度不行，清(qing)潔真(zhen)空室；

（4）靶材絕緣度(du)不行(xing)，查看(kan)靶是否與地短路，在(zai)通水(shui)的情況下，對地電阻應該在(zai) 50kΩ以上；

（5）磁場(chang)強度不行(xing)，查(cha)看永磁體是否消磁；

（6）真空(kong)度太(tai)差，查(cha)看真空(kong)體系。

2.輝光不穩

（1）電(dian)壓電(dian)流不(bu)穩，查(cha)看(kan)電(dian)源；

（2）真空(kong)(kong)室壓力(li)不穩，查看(kan)氬(ya)氣進氣量及真空(kong)(kong)體系；

（3）電纜毛病，查(cha)看(kan)電纜是否連接(jie)良好。

3.成膜質量差(cha)

（1）基片(pian)外表清(qing)(qing)潔(jie)度差，清(qing)(qing)潔(jie)基片(pian)外表；

（2）真空(kong)室清(qing)潔(jie)(jie)度差，清(qing)潔(jie)(jie)真空(kong)室；

（3）基(ji)片溫(wen)度過(guo)大或過(guo)小，查看溫(wen)控體系，校準(zhun)熱(re)電偶(ou)；

（4）真(zhen)空室壓(ya)力過大，查看(kan)真(zhen)空體(ti)系；

（5）濺射功率設置不當(dang)，查(cha)看直流電源，設置何(he)事的設定功率。

4.濺射速(su)率低

（1）氬氣(qi)(qi)進氣(qi)(qi)量(liang)過大或過小(xiao)(xiao)，調查輝光(guang)色彩可以判(pan)定氬氣(qi)(qi)是過大仍是過小(xiao)(xiao)，據此(ci)調整(zheng)氬氣(qi)(qi)進氣(qi)(qi)量(liang)；檢修流量(liang)計；

（2）靶材過熱，查看冷卻水流量；

（3）查看永磁體是否消磁。

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