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磁控濺射系統設備怎么提高使用效率

2022-08-18 11:37:44

在使用磁控濺射系統設備的時候,使用通常的濺射方法,發現濺射效率都不是非常的高。為了提高濺射的效率,加快工作的進度。

那(nei)么該如何加(jia)(jia)快這種設備的使用效(xiao)(xiao)率(lv)呢?這就需要(yao)增(zeng)加(jia)(jia)氣體的理化(hua)效(xiao)(xiao)率(lv)。增(zeng)加(jia)(jia)氣體的離化(hua)效(xiao)(xiao)率(lv)能夠有效(xiao)(xiao)的提高(gao)濺射的效(xiao)(xiao)率(lv)。

淺析磁控濺射系統設備鍍膜優勢

通(tong)常在(zai)健身過(guo)程中,經過(guo)加速的(de)(de)入(ru)射離子轟(hong)擊靶材(cai)陰(yin)極(ji)表面(mian)的(de)(de)時候,會產(chan)生電(dian)子發射,而(er)這些在(zai)陰(yin)極(ji)表面(mian)產(chan)生的(de)(de)電(dian)子開始向陽極(ji)加速進入(ru)負(fu)輝光(guang)區,和中性氣(qi)體原子進行碰(peng)撞(zhuang),產(chan)生的(de)(de)自持(chi)的(de)(de)輝光(guang)放電(dian)所需離子。電(dian)子在(zai)平均只有程隨著(zhu)電(dian)子能量的(de)(de)加大而(er)加大,隨著(zhu)氣(qi)壓的(de)(de)加大而(er)減小,特別是(shi)在(zai)遠離陰(yin)極(ji)的(de)(de)地方產(chan)生,它們的(de)(de)熱壁損失也是(shi)非(fei)常大的(de)(de),這主要是(shi)因為其離化效率低。


磁控濺射


因此可以加上一平行陰極表面的磁場就能夠將初始電子限制在陰極范圍內,能夠有效的增加氣體原子的梨花效率,從而提高磁控濺射系統設備的濺射效率。

磁(ci)控(kong)濺(jian)(jian)射(she)(she)系(xi)統設備(bei)的(de)(de)穩定性,對所(suo)生成(cheng)的(de)(de)膜均勻性、成(cheng)膜質量、鍍膜速率等方面有很(hen)(hen)大的(de)(de)影響。磁(ci)控(kong)濺(jian)(jian)射(she)(she)系(xi)統設備(bei)的(de)(de)濺(jian)(jian)射(she)(she)種類有很(hen)(hen)多,按照使用(yong)的(de)(de)電源分,能夠分為直流磁(ci)控(kong)濺(jian)(jian)射(she)(she),射(she)(she)頻(pin)磁(ci)控(kong)濺(jian)(jian)射(she)(she),中(zhong)頻(pin)磁(ci)控(kong)濺(jian)(jian)射(she)(she)等等。

直(zhi)流磁(ci)控濺(jian)(jian)射(she)所用的電(dian)(dian)源是(shi)直(zhi)流高壓電(dian)(dian)源,通常在(zai)300~1000V,特(te)點是(shi)濺(jian)(jian)射(she)速率快,造價低,后期維修(xiu)保養便宜。但是(shi)只能(neng)濺(jian)(jian)射(she)金(jin)屬(shu)靶材(cai),如(ru)果靶材(cai)是(shi)絕緣體,隨著(zhu)濺(jian)(jian)射(she)的深入,靶材(cai)會聚集大(da)量(liang)的電(dian)(dian)荷,導致濺(jian)(jian)射(she)無法(fa)繼續(xu)。因此對于金(jin)屬(shu)靶材(cai)通常用直(zhi)流磁(ci)控濺(jian)(jian)射(she),由于造價便宜,結構簡單,目(mu)前在(zai)工業上應用廣(guang)泛。

射(she)(she)(she)(she)頻磁控濺射(she)(she)(she)(she)所用的(de)射(she)(she)(she)(she)頻電(dian)源的(de)頻率通常是(shi)13.56 MHz,可以解決直流磁控濺射(she)(she)(she)(she)不能濺射(she)(she)(she)(she)絕緣靶(ba)材(cai)的(de)問題。射(she)(she)(she)(she)頻磁控濺射(she)(she)(she)(she)的(de)特(te)點是(shi):絕緣靶(ba)材(cai)和金屬靶(ba)材(cai)都能濺射(she)(she)(she)(she),膜(mo)層與(yu)基片的(de)附著力(li)強。但是(shi)由于(yu)結構裝置比較復雜,射(she)(she)(she)(she)頻電(dian)源價(jia)格(ge)昂貴,維(wei)修維(wei)護成本比較高,會對(dui)人體(ti)產生輻射(she)(she)(she)(she),并且需要(yao)外部的(de)匹(pi)配網絡等因素,不適(shi)合(he)應(ying)用于(yu)工業(ye)生產。

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