磁控濺射技術可制備裝飾薄膜、硬質薄膜、耐腐蝕摩擦薄膜、超導薄膜、磁性薄膜、光學薄膜，以及各種具有特殊功能的薄膜，是一種十分有效的薄膜沉積方法，在各個工業領域應用非常廣泛。 

“濺(jian)射(she)”是指具(ju)有(you)一定(ding)能(neng)量(liang)的粒子(zi)（一般為Ar+離子(zi)）轟(hong)擊固體(ti)（靶(ba)材(cai)(cai)）表(biao)面(mian)(mian)，使得(de)固體(ti)（靶(ba)材(cai)(cai)）分子(zi)或(huo)原子(zi)離開(kai)固體(ti)，從表(biao)面(mian)(mian)射(she)出，沉積到被鍍工件上。磁(ci)控濺(jian)射(she)是在靶(ba)材(cai)(cai)表(biao)面(mian)(mian)建立與電(dian)(dian)場正交磁(ci)場，電(dian)(dian)子(zi)受電(dian)(dian)場加(jia)速(su)作用的同時受到磁(ci)場的束縛作用，運動軌跡成擺線(xian)，增(zeng)加(jia)了(le)電(dian)(dian)子(zi)和帶電(dian)(dian)粒子(zi)以及氣體(ti)分子(zi)相碰撞的幾(ji)率，提高了(le)氣體(ti)的離化率，提高了(le)沉積速(su)率。

磁控濺射技術比蒸發技術的粒子能量更高，膜基結合力更好，“磁控濺射離子鍍膜技術”就是在普通磁控濺射技術的基礎上，在被鍍工件表面加偏壓，金屬離子在偏壓電場的作用力下，沉積在工件表面，膜層質量和膜基結合力又遠遠好于普通的磁控濺射鍍膜技術。

 根據靶(ba)(ba)(ba)材的(de)形狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)(zhuang)，磁控(kong)(kong)濺射(she)靶(ba)(ba)(ba)可分為圓(yuan)形磁控(kong)(kong)濺射(she)靶(ba)(ba)(ba)、平面磁控(kong)(kong)濺射(she)靶(ba)(ba)(ba)和(he)柱狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)(zhuang)磁控(kong)(kong)濺射(she)靶(ba)(ba)(ba)。圓(yuan)形靶(ba)(ba)(ba)主要用(yong)(yong)(yong)于科(ke)研(yan)和(he)少(shao)量的(de)工(gong)業應(ying)用(yong)(yong)(yong)，平面靶(ba)(ba)(ba)和(he)柱狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)(zhuang)靶(ba)(ba)(ba)在工(gong)業上(shang)廣泛(fan)使(shi)用(yong)(yong)(yong)，特別是柱狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)(zhuang)靶(ba)(ba)(ba)，憑借高的(de)靶(ba)(ba)(ba)材利用(yong)(yong)(yong)率和(he)穩定的(de)工(gong)作(zuo)狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)(zhuang)態，越來越多的(de)被使(shi)用(yong)(yong)(yong)。

文章內容來源于網絡，如有問題，請(qing)與我們聯絡！