濺射鍍膜技術

薄膜(mo)是一(yi)(yi)種特(te)殊的(de)(de)(de)物(wu)質形(xing)態，由(you)(you)于(yu)其在(zai)(zai)厚度(du)這一(yi)(yi)特(te)定(ding)方(fang)向(xiang)上(shang)尺寸很(hen)(hen)小，只(zhi)是微(wei)觀(guan)可測的(de)(de)(de)量，而(er)且在(zai)(zai)厚度(du)方(fang)向(xiang)上(shang)由(you)(you)于(yu)表(biao)(biao)面、界面的(de)(de)(de)存在(zai)(zai)，使(shi)物(wu)質連續性發(fa)生(sheng)中斷，由(you)(you)此(ci)使(shi)得薄膜(mo)材料產生(sheng)了與塊狀(zhuang)材料不同的(de)(de)(de)獨(du)(du)特(te)性能。薄膜(mo)的(de)(de)(de)制(zhi)備方(fang)法(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)很(hen)(hen)多，如氣(qi)相(xiang)生(sheng)長(chang)法(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)、液相(xiang)生(sheng)長(chang)法(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)(或氣(qi)、液相(xiang)外延法(fa)(fa)(fa)(fa)(fa))、氧(yang)化法(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)、擴散與涂布法(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)、電(dian)(dian)鍍法(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)等(deng)等(deng)，而(er)每一(yi)(yi)種制(zhi)膜(mo)方(fang)法(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)中又可分為(wei)(wei)若干(gan)種方(fang)法(fa)(fa)(fa)(fa)(fa)。薄膜(mo)技(ji)(ji)(ji)(ji)術涉及(ji)的(de)(de)(de)范圍(wei)很(hen)(hen)廣，它包括以(yi)物(wu)理氣(qi)相(xiang)沉積和(he)化學氣(qi)相(xiang)沉積為(wei)(wei)代表(biao)(biao)的(de)(de)(de)成(cheng)(cheng)(cheng)膜(mo)技(ji)(ji)(ji)(ji)術，以(yi)離子(zi)束刻(ke)蝕為(wei)(wei)代表(biao)(biao)的(de)(de)(de)微(wei)細加工技(ji)(ji)(ji)(ji)術，成(cheng)(cheng)(cheng)膜(mo)、刻(ke)蝕過程的(de)(de)(de)監控技(ji)(ji)(ji)(ji)術，薄膜(mo)分析、評價與檢測技(ji)(ji)(ji)(ji)術等(deng)等(deng)。現在(zai)(zai)薄膜(mo)技(ji)(ji)(ji)(ji)術在(zai)(zai)電(dian)(dian)子(zi)元器(qi)件、集成(cheng)(cheng)(cheng)光(guang)學、電(dian)(dian)子(zi)技(ji)(ji)(ji)(ji)術、紅外技(ji)(ji)(ji)(ji)術、激光(guang)技(ji)(ji)(ji)(ji)術以(yi)及(ji)航天技(ji)(ji)(ji)(ji)術和(he)光(guang)學儀器(qi)等(deng)各(ge)個領域都得到了廣泛的(de)(de)(de)應用(yong)，它們不僅成(cheng)(cheng)(cheng)為(wei)(wei)一(yi)(yi)間獨(du)(du)立的(de)(de)(de)應用(yong)技(ji)(ji)(ji)(ji)術，而(er)且成(cheng)(cheng)(cheng)為(wei)(wei)材料表(biao)(biao)面改性和(he)提高某些工藝水平的(de)(de)(de)重要手段(duan)。

濺(jian)射是(shi)薄膜(mo)淀(dian)積到基(ji)(ji)板上的主要(yao)方法。濺(jian)射鍍膜(mo)是(shi)指在真空室中，利用荷能粒(li)子轟擊鍍料表面，使被轟擊出的粒(li)子在基(ji)(ji)片上沉積的技術。

一．濺射(she)工藝原理

濺射鍍膜有兩類：離子束濺射和氣體放電濺射

1. 離子(zi)束(shu)(shu)濺射：在真空室中(zhong)，利(li)用離子(zi)束(shu)(shu)轟擊靶(ba)表(biao)(biao)面(mian)，使濺射出(chu)的粒子(zi)在基片表(biao)(biao)面(mian)成膜。

特點：

①離(li)子束(shu)由(you)特制的離(li)子源產生

②離子源結構復(fu)雜，價格昂(ang)貴

③用于分析技術和(he)制取特殊(shu)薄膜

2. 氣體(ti)放(fang)電(dian)濺射：利用低壓氣體(ti)放(fang)電(dian)現象，產生等離(li)子體(ti)，產生的(de)正(zheng)離(li)子，被電(dian)場加速為(wei)高能粒子，撞擊(ji)固(gu)體(ti)（靶）表面(mian)進行(xing)能量和動(dong)量交(jiao)換后，將被轟(hong)擊(ji)固(gu)體(ti)表面(mian)的(de)原子或分子濺射出來，沉積(ji)在襯底(di)材料上成膜的(de)過程。

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