磁控濺射，磁(ci)場操控的二級濺射。

原理是將靶材周圍的(de)氣體(ti)電離(li)化(hua)，構成等(deng)離(li)子體(ti)，在等(deng)離(li)子體(ti)環境中濺射進程。歸于氣體(ti)放電領域。

優質的膜層(ceng)需求操控膜層(ceng)的安穩性(xing)和均勻性(xing)，而體現在操控方面，則表現為：磁場、氣(qi)場、電源(yuan)。

1.磁場(chang)的(de)安(an)穩(wen)：靶芯的(de)磁場(chang)的(de)均勻性。

2.氣場的安穩(wen)：安穩(wen)的抽氣和進氣體系。

3.電源的安穩：反應(ying)操控體(ti)系。

以上問題決議了膜層操控的好壞。以上的鍍膜設備差價也有百倍、千倍。幾萬到幾億不等。

從以上(shang)能看出鍍膜(mo)(mo)環境對膜(mo)(mo)層的影響。所以，漏氣狀況跟膜(mo)(mo)層的好壞聯(lian)系巨大。

問題（1）：漏(lou)(lou)氣影響很(hen)嚴(yan)重(zhong)。針對分子(zi)(zi)泵(beng)(beng)極限真空(kong)(kong)(kong)抵達(da)2X10-2Pa的(de)狀況(kuang)，漏(lou)(lou)氣狀況(kuang)遠大于此時(shi)的(de)真空(kong)(kong)(kong)，分子(zi)(zi)泵(beng)(beng)在2X10-2Pa的(de)抽速(su)為zui高抽速(su)（用(yong)1200L/S的(de)泵(beng)(beng)體(ti)來核算(suan)，抽速(su)為1200L/S，排(pai)氣流量(liang)(liang)可(ke)達(da)到8.0X102PaL/S，PS：留意這里是102.）漏(lou)(lou)氣已經(jing)很(hen)嚴(yan)重(zhong)了。一般(ban)極限真空(kong)(kong)(kong)需求在10-5Pa，而本地真空(kong)(kong)(kong)根據(ju)工藝要求調理(li)，一般(ban)也不會大于8.0X10-2Pa。別(bie)的(de)，濺射進(jin)程(cheng)(cheng)中，布氣管放氣和抽氣進(jin)程(cheng)(cheng)是通過核算(suan)的(de)，其方法可(ke)盡量(liang)(liang)減小氣場(chang)的(de)擾(rao)(rao)動。所以，假如(ru)漏(lou)(lou)氣效果發生的(de)話，將影響漏(lou)(lou)氣點(dian)較大范(fan)圍的(de)氣場(chang)擾(rao)(rao)動和氣壓的(de)巨細。膜層(ceng)也將受(shou)到很(hen)大影響。

問(wen)(wen)題(ti)（2）：這個(ge)問(wen)(wen)題(ti)歸于流(liu)體(ti)(ti)力學，分(fen)為粘(zhan)滯流(liu)、分(fen)子(zi)流(liu)、粘(zhan)滯分(fen)子(zi)流(liu)。三(san)者(zhe)的差別在(zai)于粘(zhan)滯流(liu)是(shi)(shi)指的分(fen)子(zi)自(zi)(zi)在(zai)程遠(yuan)遠(yuan)小(xiao)于管道最小(xiao)截面(mian)，一(yi)(yi)般為1Pa左(zuo)右(you)為界定(ding)條件；分(fen)子(zi)流(liu)是(shi)(shi)分(fen)子(zi)自(zi)(zi)在(zai)程遠(yuan)遠(yuan)大于管道最小(xiao)截面(mian)，一(yi)(yi)般為10-2Pa左(zuo)右(you)為界定(ding)條件；兩者(zhe)中間(jian)的過度(du)則稱為粘(zhan)滯分(fen)子(zi)流(liu)。由(you)于分(fen)子(zi)磕碰方法不(bu)同，三(san)者(zhe)流(liu)導(dao)核(he)算則歸于不(bu)同的核(he)算方法。不(bu)過一(yi)(yi)般來說，鍍(du)膜(mo)設備抽(chou)氣體(ti)(ti)系盡量短，而直徑(jing)盡量廣泛。才(cai)干更好(hao)的安(an)穩(wen)抽(chou)速。抽(chou)氣體(ti)(ti)系的管道直徑(jing)也需求依據真(zhen)空(kong)主管道的長度(du)來核(he)算，不(bu)過一(yi)(yi)般的鍍(du)膜(mo)真(zhen)空(kong)體(ti)(ti)系根本沒有問(wen)(wen)題(ti)。主管道間(jian)隔0.5m左(zuo)右(you)，粗度(du)可(ke)(ke)與分(fen)子(zi)泵口(kou)的寬度(du)相同即可(ke)(ke)（鍍(du)膜(mo)機廠家都(dou)核(he)算過）。假如想增加抽(chou)速，需求根據詳細管道尺(chi)度(du)、轉彎、變徑(jing)等狀況(kuang)詳細核(he)算。

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