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磁控濺射預處理的目的

2020-12-18 13:34:33

一、鍍前預處理鍍前磁控濺射預處理的目的是為了得到干凈新鮮的金屬表面，為最后獲得高質量鍍層作準備，要進行脫脂、去銹蝕、去灰塵等工作。步驟如下：第一步：使表面粗糙度...

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磁控濺射的材料不同結果會有什么不同

2020-12-11 09:57:01

用磁控靶源濺射金屬和合金很容易，點火和濺射很方便。這是因為靶（陰極），等離子體，和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若濺射絕緣體如陶瓷則回路斷了。于是人們采用高頻...

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磁控濺射是物理氣相沉積現象

2020-12-04 17:38:17

磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點。磁控濺射鍍膜儀廠家帶你...

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什么是射頻磁控濺射

2020-11-26 14:52:24

射頻磁控濺射是一種濺射鍍膜法，它對陰極濺射中電子使基片溫度上升過快的缺點加以改良，在被濺射的靶極（陽極）與陰極之間加一個正交磁場和電場，電場和磁場方向相互垂直。...

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直流磁控濺射法

2020-11-16 08:45:52

直流磁控濺射法要求靶材能夠將從離子轟擊過程中得到的正電荷傳遞給與其緊密接觸的陰極，從而該方法只能濺射導體材料，不適于絕緣材料，因為轟擊絕緣靶材時表面的離子電荷無...

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磁控濺射的氣體離子

2020-11-16 08:44:35

濺射時，氣體被電離之后，氣體離子在電場作用下飛向接陰極的靶材，電子則飛向接地的壁腔和基片。這樣在低電壓和低氣壓下，產生的離子數目少，靶材濺射效率低；而在高電壓和...

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磁控濺射真空系統的設計

2020-11-09 14:59:52

磁控濺射真空系統的設計真空系統設計是一個相對成熟的設計部分，主要包括下面四個部分：(1)室體結構——由系統工作方式設定其設計形式。真空室可設計為單室，多室和生產...

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磁控濺射靶的工作狀態

2020-11-09 13:52:21

磁控濺射鍍膜是現代工業中不可缺少的技術之一，磁控濺射鍍膜技術正廣泛應用于透明導電膜、光學膜、超硬膜、抗腐蝕膜、磁性膜、增透膜、減反膜以及各種裝飾膜，在國防和國民...

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?磁控濺射的種類有哪些

2020-11-02 13:06:47

磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子的概率。所產...

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磁控濺射是高速低溫濺射技術

2020-11-02 11:48:21

磁控濺射的特點是成膜速率高，基片溫度低，膜的粘附性好，可實現大面積鍍膜。該技術可以分為直流磁控濺射法和射頻磁控濺射法。磁控濺射(magnetron-sputte...

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磁控濺射的定義是什么？

2020-10-26 14:23:44

在二極濺射中增加一個平行于靶表面的封閉磁場，借助于靶表面上形成的正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面特定區域來增強電離效率，增加離子密度和能量，從而實現高速率濺射...

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磁控濺射種類

2020-10-26 14:22:14

磁控濺射種類磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊氬氣產生離子...

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磁控濺射鍍膜技術

2020-10-19 14:40:55

濺射濺射鍍膜濺射鍍膜就是在真空中利用荷能粒子轟擊靶表面，使被轟擊出的粒子沉積在基片上的技術。通常，利用低壓惰性氣體輝光放電來產生入射離子。陰極靶由鍍膜材料制成，...

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磁控濺射設備的主要用途

2020-10-19 14:39:52

磁控濺射設備的主要用途（1）各種功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低溫沉積氮化硅減反射膜，以提高太陽能電池的光電轉換效率。（2）...

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磁控濺射的原理

2020-10-13 14:15:09

磁控濺射系統的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發生碰撞，使其電離產生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛...

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磁控濺射不同種類的共同點

2020-10-12 14:10:48

磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點。磁控濺射系統廠家帶你了...

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真空磁控濺射為什么必須在真空環境？

2020-09-24 09:05:24

磁控濺射過程是經過電能，使氣體的離子（可以理解為氣體顆粒）炮擊靶材（一般是金屬濺射物），就像磚頭砸土墻，土墻的部分原子濺射出來，落在所要鍍膜的基體上的進程。假如...

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直流磁控濺射和射頻磁控濺射的區別

2020-09-17 10:00:38

主要的濺射方法能夠根據其特征分為以下四種：（1）直流濺射；（2）射頻濺射；（3）磁控濺射；（4）反應濺射。另外，使用各種離子束源也能夠完成薄膜的濺射堆積。現在的...

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磁控濺射鍍膜設備如何使用效率才高？

2020-09-10 09:30:03

在使用磁控濺射鍍膜設備的時候，使用一般的濺射辦法，發現濺射功率都不是非常的高。為了進步濺射的功率，加速工作的進展。那么該怎樣加速這種設備的運用功率呢？這...

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磁控濺射是物理氣相沉積的一種！

2020-09-03 16:00:03

磁控濺射是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點。磁控濺射鍍膜儀廠家帶你...

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